Surface Treatment Platform
超导腔表面处理平台
对新加工超导腔的内表面进行缓冲化学抛光（BCP）与电化学抛光（EP），去除机械加工损伤层，超导腔处理能力可达 50 支/年。
BCPEP氮掺杂烘烤高真空50 支/年
01
平台介绍
新加工的超导腔，其内表面由于冲压等工艺，存在着一层机械加工损伤层，不能直接用于加速带电粒子，须要对其内表面进行缓冲化学抛光（BCP）或电化学抛光（EP）。超导腔处理能力可达到50支/年。
02
平台优势
- 电化学抛光装置可兼容1.3 GHz TESLA超导腔多种类型腔
- 氮掺杂烘烤炉能够达到极高的冷态极限真空度（要求值5E-6Pa，实际值好于2E-6Pa），可实现高真空与低压高纯氮双气氛稳定切换
03
平台配套
- 电化学抛光装置：能兼容1.3 GHz 9cell标准腔、1.3 GHz 9cell双馈腔、1.3 GHz单cell腔和1.3 GHz 9cell带槽腔的抛光
- 缓冲化学抛光装置
- 氮掺杂烘烤炉：能够放置两个1.3 GHz 9cell超导腔，冷态极限真空度可达到2E-6Pa，最高温度不低于1200℃，控温精度为±1℃
- 高压纯水冲淋装置